等離子體化學氣相沉積設備生産廠家|廠商|價格|品牌-北京創世威納科技

PECVD-601型：高性能薄膜制備

應用方向：科研與教學産品優勢：高性能薄膜制備産品配置：★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸★沉積材料：包括并不限于矽基（Si）薄膜、碳基（C）薄膜、矽鍺合金（SiGe
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PECVD-8100型等離子體化學氣相沉積設備

特點：高性能薄膜制備，帶有雙片樣品庫（Load-Lock）應用方向：科研與小批量生産産品優勢：高性能薄膜制備，帶有雙片樣品庫（Load-Lock）産品配置：★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸★沉積材料：包括并不限于矽基（S
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PECVD-802L型等離子體化學氣相沉積設備

特點：帶單樣品送取室（Load-Lock），特别适用P-I-N膜層沉積或類似應用應用方向：科研與教學産品優勢：帶單樣品送取室（Load-Lock），特别适用P-I-N膜層沉積或類似應用産品配置：★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸★沉積材料：包括
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PECVD-4000型等離子體化學氣相沉積設備

特點：三個沉積室+單樣品送取樣室，特别适用P-I-N膜層沉積或類似應用應用方向：科研與小批量生産産品優勢：三個沉積室+單樣品送取樣室，特别适用P-I-N膜層沉積或類似應用産品配置：★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸★沉積材料：包括并不
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