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北京創世威納科技有限公司 

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  • DISC-SP-3200型磁控濺射鍍膜機

    DISC-SP-3200型磁控濺射鍍膜機

    特點：DISC-SP-3200型：傾斜共濺射，單片送取樣室（Load-Lock） 應用方向：科研與教學 産品優勢：傾斜共濺射，單片送取樣室（Load-Lock）

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  • DISC-ICP-8100型感應耦合等離子體刻蝕機

    DISC-ICP-8100型感應耦合等離子體刻蝕機

    特點：耐氟基或更弱腐蝕性氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）； 應用方向：科研與教學産品優勢：耐氟基或更弱腐蝕性氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）

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  • DISC-ICP-601型感應耦合等離子體刻蝕機

    DISC-ICP-601型感應耦合等離子體刻蝕機

    特點：DISC-ICP-601:耐氟基或更弱氣體腐蝕 應用方向：科研與教學産品優勢：耐氟基或更弱腐蝕性氣體産品配置：★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸★刻蝕材料：包括并不限于單晶矽、多晶矽、SiO2、Si3N4、Ti、

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  • DISC-IBE-150C/200C型離子束刻蝕機

    DISC-IBE-150C/200C型離子束刻蝕機

    特點：DISC-IBE-150C/200C型： 負角度刻蝕降低反污染，熱态、冷态兩種中和系統，腔體前後開門 應用方向：科研與教學産品優勢：負角度刻蝕降低反污染，熱态、冷态兩種中和系統，刻蝕腔體前後開門産品配置：★離子源種類：考夫曼離子源★離子源口徑：Φ160mm/22

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  • DISC-RIE-601反應離子刻蝕機

    DISC-RIE-601反應離子刻蝕機

    特點：DISC-RIE-601：刻蝕緩慢好控制，耐氟基或更弱氣體腐蝕 應用方向：科研與教學産品優勢：刻蝕緩慢好控制，耐氟基或更弱腐蝕性氣體産品配置：★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸★刻蝕材料：包括并不限于單晶矽、多晶矽、SiO2、S

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  • DISC-ICP-8101型感應耦合等離子體刻蝕機

    DISC-ICP-8101型感應耦合等離子體刻蝕機

    特點：DISC-ICP-8101：氯基專用刻蝕設備，耐氯基強腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock） 應用方向：科研與教學産品優勢：耐氯基強腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）産品配置：★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸★刻蝕材料：包括并不限于GaN、Ga

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  • DISC-RIE-8100型反應離子刻蝕機

    DISC-RIE-8100型反應離子刻蝕機

    特點：DISC-RIE-8100：刻蝕速率控制方便，耐氟基或更弱腐蝕性氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock） 應用方向：科研與教學産品優勢：刻蝕速率控制方便，耐氟基或更弱腐蝕性氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）産品配置：★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸★刻蝕材料：

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  • DISC-RIE-8101型反應離子刻蝕機

    DISC-RIE-8101型反應離子刻蝕機

    特點：DISC-RIE-8101：氯基專用刻蝕設備，刻蝕速率控制方便，耐氯基強腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock） 應用方向：科研與教學産品優勢：刻蝕速率控制方便，耐氯基強腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）産品配置：★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸★刻蝕材料：

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