DISC-SP-3200型磁控濺射鍍膜機

DISC-SP-3200型：傾斜共濺射，單片送取樣室（Load-Lock）

應用方向：科研與教學

産品優勢：傾斜共濺射，單片送取樣室（Load-Lock）

産品配置：

★樣片數量及尺寸： 1片Ф2英寸~Ф6英寸

★濺射材料：金屬；非金屬；化合物等薄膜材料。

★濺射腔體：高真空系統。

★Load-Lock：低真空系統 或 高真空系統。單片裝，樣品自動運送。

★濺射不均勻性：≤±3%-±5％

★磁控靶：2-4支；可調角度

★濺射方向：樣品下置（自上而下濺射）或 樣品上置（自下而上濺射）

★加熱：常規加熱，可選高溫加熱

★電源配置：射頻；直流；直流脈沖；直流偏壓

★清洗功能：可選配考夫曼離子源

★快速反應濺射功能：可選配Speedflo

★膜厚監控功能：可選配晶控膜厚在線監測與終點控制

★操作模式：全自動+半自動控制

設備詳細結構與功能，請咨詢銷售工程師。