RIE-601反應離子刻蝕機

名稱：RIE-601型： 刻蝕緩慢好控制，耐氟基或更弱腐蝕性氣體

應用方向：科研與教學

産品優勢：刻蝕緩慢好控制，耐氟基或更弱腐蝕性氣體

産品配置：

★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸

★刻蝕材料：包括并不限于單晶矽、多晶矽、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等

★刻蝕腔體：高真空系統

★刻蝕不均勻性：±3%-±6%

★刻蝕速率：0.1-4μm/min（視具體材料與工藝）

★工作台：可升降，包含水冷

★電源配置：下電極偏壓，包含自動匹配

★氣路數量與種類：4路耐氟基腐蝕氣路 或 用戶選配

★He冷背吹系統：可選配

★終點檢測控制：可選配質譜儀

★操作模式：全自動+半自動控制

類似産品：帶單片送樣室（RIE-5100） 

設備詳細結構與功能，請咨詢銷售工程師。