反應離子刻蝕機生産廠家|廠商|價格|品牌-北京創世威納科技

DISC-RIE-8101型反應離子刻蝕機

名稱：DISC-RIE-8101：氯基專用刻蝕設備，刻蝕速率控制方便，耐氯基強腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）應用方向：科研與教學産品優勢：刻蝕速
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DISC-RIE-8100：刻蝕速率控制方便，耐氟基或更弱腐蝕性氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）

名稱：DISC-RIE-8100：刻蝕速率控制方便，耐氟基或更弱腐蝕性氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）應用方向：科研與教學産品優勢：刻蝕速率控制方便，
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DISC-RIE-601型反應離子刻蝕機

特點：DISC-RIE-601：刻蝕緩慢好控制，耐氟基或更弱氣體腐蝕名稱：DISC-RIE-601：刻蝕緩慢好控制，耐氟基或更弱氣體腐蝕應用方向：科研與教學産品優勢：刻蝕緩慢好控制，耐氟基或更弱腐蝕性氣體産品配置：★樣片數量及尺
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RIE-400型反應離子刻蝕機

名稱：RIE-400型：去膠+修膠+刻蝕，針對大尺寸片狀樣品應用方向：批量生産産品優勢：去膠+修膠+刻蝕，針對大尺寸片狀樣品産品配置：★樣片數量及尺寸：1片45
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RIE-601反應離子刻蝕機

特點：RIE-601型：刻蝕緩慢好控制，耐氟基或更弱腐蝕性氣體應用方向：科研與教學産品優勢：刻蝕緩慢好控制，耐氟基或更弱腐蝕性氣體産品配置：★樣片數量及尺寸：
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RIE-5100型反應離子刻蝕機

特點：RIE-5100型：刻蝕速率控制方便，耐氟基或更弱腐蝕性氣體，帶單片送取樣室（Load-Lock）生産廠家|價格|品牌-北京創世威納科技應用方向：科研與教學産品優勢：刻蝕速率控制方便，耐氟基或更弱腐蝕性氣體，帶單片送取樣室（Load-Lock）産品配置：★樣片數量及尺寸：
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RIE-5101型反應離子刻蝕機

特點：氯基專用刻蝕設備，刻蝕速率控制方便，耐氯基強腐蝕氣體，帶單片送取樣室（Load-Lock）應用方向：科研與教學産品優勢：刻蝕速率控制方
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RIE-8100型反應離子刻蝕機

特點：刻蝕速率控制方便，耐氟基或更弱腐蝕性氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）應用方向：科研與教學産品優勢：刻蝕速率控制方便，耐氟基或
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RIE-8101型反應離子刻蝕機

特點：氯基專用刻蝕設備，刻蝕速率控制方便，耐氯基強腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）應用方向：科研與教學産品優勢：刻蝕速率控制方
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RIE-1201型反應離子刻蝕機

特點：大樣品刻蝕，選擇比高應用方向：科研與小批量生産産品優勢：大樣品刻蝕，選擇比高★樣片數量及尺寸：1片12英寸樣片★刻蝕腔體：高真空系統★
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