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  • DISC-IBE-150C/200C型離子束刻蝕機

    DISC-IBE-150C/200C型離子束刻蝕機

    特點: 負角度刻蝕降低反污染,熱态、冷态兩種中和系統,腔體前後開門 應用方向:科研與教學産品優勢:負角度刻蝕降低反污染,熱

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  • MIBE-150/200A型離子束刻蝕機

    MIBE-150/200A型離子束刻蝕機

    特點: 負角度片狀樣品刻蝕,冷态中和系統 應用方向:科研與教學産品優勢:負角度刻蝕,冷态中和系統 産品配置:★離子源種類:考夫曼離子源

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  • MRIBE-150型離子束刻蝕機

    MRIBE-150型離子束刻蝕機

    特點:反應離子束刻蝕設備,離子束物理刻蝕能力+化學反應能力+化學輔助刻蝕能力應用方向:科研與教學産品優勢:離子束物理刻蝕能力+化學反應能力

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  • MIBE-150/200B型離子束刻蝕機

    MIBE-150/200B型離子束刻蝕機

    特點: 負角度片狀+棒狀樣品刻蝕,冷态中和系統,刻蝕大尺寸樣品 應用方向:科研與小批量生産産品優勢:負角度片狀+棒狀樣品刻蝕,冷态中

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  • MRIBE-300M型離子束刻蝕機

    MRIBE-300M型離子束刻蝕機

    特點:反應離子束刻蝕設備,離子束物理刻蝕能力+化學反應能力+化學輔助刻蝕能力 應用方向:科研與教學産品優勢:離子束物理刻蝕能力+化學反應能

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