RIE-400型反應離子刻蝕機

名稱：RIE-400型：去膠+修膠+刻蝕，針對大尺寸片狀樣品

應用方向：批量生産

産品優勢：去膠+修膠+刻蝕，針對大尺寸片狀樣品

産品配置：

★樣片數量及尺寸：1片450mm×450mm樣片

★刻蝕材料：包括并不限于Si、SiOx、SiNx、部分金屬（如W、Mo）、聚合物等

★刻蝕腔體：高真空系統

★刻蝕不均勻性：±3%-±6%

★刻蝕速率：0.1-4μm/min（視具體材料與工藝）

★工作台：包含水冷

★電源配置：上下兩個射頻電源，包含自動匹配

★氣路數量與種類：6路耐氟基腐蝕氣路 或 用戶選配

★He冷背吹系統：可選配

★終點檢測控制：可選配質譜儀

★操作模式：全自動+半自動控制

類似産品：大樣品刻蝕（ICP-1200）

設備詳細結構與功能，請咨詢銷售工程師。