ICP-5101型：氯基專用刻蝕設備， 耐氯基強腐蝕氣體，帶單片送取樣室（Load-Lock）

名稱：ICP-5101型：氯基專用刻蝕設備， 耐氯基強腐蝕氣體，帶單片送取樣室（Load-Lock）

應用方向：科研與教學

産品優勢：耐氯基強腐蝕氣體，帶單片送取樣室（Load-Lock）

産品配置：

★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸

★刻蝕材料：包括并不限于GaN、GaAs、InP、Al、Cr、單晶矽、多晶矽、SiO2、Si3N4、Ti、W、Mo、聚合物等。

★刻蝕腔體：高真空系統

★Load-Lock：低真空系統 或 高真空系統。單片裝，樣品自動運送。

★刻蝕不均勻性：±3%-±6%

★刻蝕速率：0.1-4μm/min（視具體材料與工藝）

★工作台：可升降，包含水冷

★電源配置：上電極射頻，下電極偏壓，包含自動匹配

★氣路數量與種類：6路氣路，其中2路耐氯氣腐蝕VCR焊接 或 用戶選配

★深矽刻蝕系統：可選配

★He冷背吹系統：可選配

★終點檢測控制：可選配質譜儀

★操作模式：全自動+半自動控制

類似産品：帶雙片送樣室耐氯氣腐蝕（ICP-8101）

設備詳細結構與功能，請咨詢銷售工程師。